D'Roll vum Schwefelhexafluorid an der Siliziumnitrid Ätzen

Schwefelhexafluorid ass e Gas mat exzellenten Isoléierungseigenschaften a gëtt dacks an Héichspannungsbogenläscher an Transformatoren, Héichspannungsleitungen, Transformatoren, asw benotzt. .Elektronesch Grad High-Purity Schwefelhexafluorid ass en ideale elektronesche Ässant, dee wäit am Beräich vun der Mikroelektroniktechnologie benotzt gëtt.Haut wäert Niu Ruide spezielle Gasredaktor Yueyue d'Applikatioun vum Schwefelhexafluorid an der Siliziumnitrid Ätzen an den Afloss vu verschiddene Parameter aféieren.

Mir diskutéieren de SF6 Plasma Ätzen SiNx Prozess, dorënner Ännerung vun der Plasma Muecht, de Gas Verhältnis vun SF6 / He an dobäi de kationesche Gas O2, diskutéieren säin Afloss op d'Äts Taux vun der SiNx Element Schutz Layer vun TFT, a benotzt Plasma Stralung. Spektrometer analyséiert d'Konzentratiounsännerungen vun all Spezies am SF6 / He, SF6 / He / O2 Plasma an der SF6 Dissoziatiounsquote, an entdeckt d'Relatioun tëscht der Verännerung vun der SiNx Ätsrate an der Plasma Arten Konzentratioun.

Studien hu festgestallt, datt wann d'Plasma-Kraaft erhéicht gëtt, d'Ätstrate eropgeet;wann d'Flowrate vum SF6 am Plasma erhéicht gëtt, erhéicht d'F Atom Konzentratioun a positiv korreléiert mat der Ätsquote.Zousätzlech, nodeems de kationesche Gas O2 ënner der fixer Gesamtstroumgeschwindegkeet bäigefüügt gëtt, wäert et den Effekt hunn fir d'Ätsquote ze erhéijen, awer ënner verschiddene O2 / SF6 Fluxverhältnisser ginn et verschidde Reaktiounsmechanismen, déi an dräi Deeler opgedeelt kënne ginn. : (1) D'O2 / SF6 Flux Verhältnis ass ganz kleng, O2 kann d'Dissoziatioun vun SF6 hëllefen, an d'Ätzrate zu dëser Zäit ass méi grouss wéi wann O2 net dobäi ass.(2) Wann d'O2 / SF6 Flux Verhältnis méi grouss ass wéi 0,2 bis den Intervall 1 Approche, zu dëser Zäit, wéinst der grousser Quantitéit vun Dissoziatioun vun SF6 zu F Atomer Form, ass d'Ätst Taux déi héchste;awer zur selwechter Zäit ginn d'O-Atomer am Plasma och erop an Et ass einfach SiOx oder SiNxO(yx) mat der SiNx-Filmuewerfläch ze bilden, a wat méi O-Atomer eropgoen, wat méi schwéier d'F-Atomer sinn fir de Ätsreaktioun.Dofir fänkt d'Ätstrate ze luesen wann d'O2 / SF6 Verhältnis no bei 1 ass. (3) Wann d'O2 / SF6 Verhältnis méi grouss ass wéi 1, fällt d'Ätstquote erof.Wéinst der grousser Erhéijung vun O2 kollidéieren déi dissoziéiert F-Atomer mat O2 a bilden OF, wat d'Konzentratioun vu F-Atomer reduzéiert, wat zu enger Ofsenkung vun der Ätsquote resultéiert.Et kann aus dësem gesi ginn datt wann O2 bäigefüügt gëtt, de Flowverhältnis vun O2 / SF6 tëscht 0,2 an 0,8 ass, an dee beschten Ätzrate ka kritt ginn.


Post Zäit: Dez-06-2021