Produiten
-
Sauerstoff (O2)
Sauerstoff ass e faarweg a Gerochlos Gas. Et ass déi allgemeng elementar Form vu Sauerstoff. Wat d'Technologie ubelaangt, gëtt Sauerstoff aus dem Loftflëssegkeetsprozess extrahéiert, a Sauerstoff an der Loft mécht ongeféier 21% aus. Sauerstoff ass e faarwege a Gerochlosen Gas mat der chemescher Formel O2, wat déi allgemeng elementar Form vu Sauerstoff ass. De Schmelzpunkt ass -218,4°C, an de Kachpunkt ass -183°C. Et ass net einfach am Waasser löslech. Ongeféier 30mL Sauerstoff gëtt an 1L Waasser opgeléist, an de flëssege Sauerstoff ass Himmelblo. -
Schwefeldioxid (SO2)
Schwefeldioxid (Schwefeldioxid) ass deen allgemengsten, einfachsten an irritéierend Schwefeloxid mat der chemescher Formel SO2. Schwefeldioxid ass e faarweg an transparent Gas mat engem schaarfen Geroch. Opléisbar a Waasser, Ethanol an Ether, flësseg Schwefeldioxid ass relativ stabil, inaktiv, net brennbar a bildt keng explosiv Mëschung mat Loft. Schwefeldioxid huet Bleicheigenschaften. Schwefeldioxid gëtt allgemeng an der Industrie benotzt fir Pulp, Woll, Seid, Stréihütten, asw.. Schwefeldioxid kann och de Wuesstum vu Schimmel a Bakterien hemmen. -
Ethylenoxid (ETO)
Ethylenoxid ass ee vun den einfachsten zyklesche Etheren. Et ass eng heterozyklesch Verbindung. Seng chemesch Formel ass C2H4O. Et ass e gëftegt Karzinogen an e wichtegt petrochemescht Produkt. Déi chemesch Eegeschafte vum Ethylenoxid si ganz aktiv. Et kann Ring-Ouverture Additioun Reaktioune mat ville Verbindungen ënnergoen a kann Sëlwer Nitrat reduzéieren. -
1,3 Butadien (C4H6)
1,3-Butadien ass eng organesch Verbindung mat enger chemescher Formel vu C4H6. Et ass e faarwege Gas mat engem liicht aromatesche Geroch an ass einfach ze flësseg. Et ass manner gëfteg a seng Toxizitéit ass ähnlech wéi déi vum Ethylen, awer et huet staark Reizung op d'Haut an d'Schleimhaut, an huet anesthetesch Effekter bei héijen Konzentratioune. -
Waasserstoff (H2)
Waasserstoff huet eng chemesch Formel vun H2 an engem Molekulare Gewiicht vun 2,01588. Ënner normalen Temperaturen an Drock ass et en extrem brennbaren, faarwege, transparenten, Gerochlosen a Goûtlosen Gas, dee schwéier am Waasser opléise kann an net mat de meeschte Substanzen reagéiert. -
Neon (Neon)
Neon ass e faarwege, Gerochlosen, net brennbarem Seltengas mat enger chemescher Formel vum Ne. Normalerweis kann Neon als Füllgas fir faarweg Neon Luuchten fir Outdoor Reklammen Affichage benotzt ginn, a kann och fir visuell Liichtindikatoren a Spannungsreguléierung benotzt ginn. A Laser Gas Mëschung Komponente. Edelgase wéi Neon, Krypton an Xenon kënnen och benotzt ginn fir Glasprodukter ze fëllen fir hir Leeschtung oder Funktioun ze verbesseren. -
Kuelestofftetrafluorid (CF4)
Kuelestofftetrafluorid, och bekannt als Tetrafluormethan, ass e faarwege Gas bei normaler Temperatur an Drock, onopléisbar am Waasser. CF4 Gas ass de Moment am meeschte verbreet Plasma Ätsgas an der Mikroelektronikindustrie. Et gëtt och als Lasergas, kryogene Kältemëttel, Léisungsmëttel, Schmierstoff, Isoléiermaterial a Kältemëttel fir Infraroutdetektorröhre benotzt. -
Sulfurylfluorid (F2O2S)
Sulfurylfluorid SO2F2, gëfteg Gas, gëtt haaptsächlech als Insektizid benotzt. Well Sulfurylfluorid d'Charakteristike vu staarker Diffusioun a Permeabilitéit huet, breet-Spektrum Insektizid, niddereg Doséierung, niddereg Reschtoffall, séier Insektizidgeschwindegkeet, kuerz Gasdispersiounszäit, praktesch Benotzung bei niddregen Temperaturen, keen Effekt op Keimungsquote a geréng Toxizitéit, wat méi Et gëtt ëmmer méi verbreet a Lagerhaiser, Frachtschëffer, Gebaier, Reservoir Staudamm, Termitpräventioun, asw. -
Silan (SiH4)
Silane SiH4 ass e faarlosen, gëftege a ganz aktive kompriméierte Gas bei normaler Temperatur an Drock. Silane gëtt vill am epitaxialen Wuesstum vu Silizium benotzt, Rohmaterial fir Polysilisium, Siliziumoxid, Siliziumnitrid, asw., Solarzellen, optesch Faseren, faarweg Glasfabrikatioun, a chemesch Dampdepositioun. -
Octafluorocyclobutan (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, Gas Rengheet: 99,999%, dacks als Liewensmëttel Aerosol Dreifstoff a Mëttelgas benotzt. Et gëtt oft an semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemeschen Damp Oflagerung) Prozess benotzt, C4F8 gëtt als Ersatz fir CF4 oder C2F6 benotzt, benotzt als Botzen Gas an semiconductor Prozess Ätzgas. -
Nitrogenoxid (NO)
Nitrogenoxidgas ass eng Verbindung vu Stickstoff mat der chemescher Formel NO. Et ass e faarwege, Gerochlosen, gëftege Gas deen onopléisbar am Waasser ass. Nitrogenoxid ass chemesch ganz reaktiv a reagéiert mat Sauerstoff fir de korrosive Gas Stickstoffdioxid (NO₂) ze bilden. -
Waasserstoffchlorid (HCl)
Waasserstoffchlorid HCL Gas ass e faarwege Gas mat engem schaarfen Geroch. Seng wässerlech Léisung gëtt Salzsäure genannt, och bekannt als Salzsäure. Waasserstoffchlorid gëtt haaptsächlech benotzt fir Faarfstoffer, Gewierzer, Medikamenter, verschidde Chloriden a Korrosiounsinhibitoren ze maachen.
