Gemeinsam fluorhalteg speziell elektronesch Gase enthalenSchwefelhexafluorid (SF6), Wolfram Hexafluorid (WF6),Kuelestofftetrafluorid (CF4), Trifluormethan (CHF3), Stickstofftrifluorid (NF3), Hexafluorethan (C2F6) an Octafluorpropan (C3F8).
Mat der Entwécklung vun der Nanotechnologie an der grousser Entwécklung vun der Elektronikindustrie wäert seng Demande Dag fir Dag eropgoen. Stickstofftrifluorid, als onverzichtbaren a gréisste gebrauchte speziellen elektronesche Gas an der Produktioun an der Veraarbechtung vu Paneele a Hallefleitungen, huet e breet Maartraum.
Als Zort vu fluorhaltege spezielle Gas,Stickstofftrifluorid (NF3)ass den elektronesche Spezialgasprodukt mat der gréisster Maartkapazitéit. Et ass chemesch Inert bei Raumtemperatur, méi aktiv wéi Sauerstoff bei héijer Temperatur, méi stabil wéi Fluor, an einfach ze handhaben. Stickstofftrifluorid gëtt haaptsächlech als Plasma Ätzgas an als Reaktiounskammerreinigungsmëttel benotzt, an ass gëeegent fir d'Fabrikatiounsfelder vun Hallefleitchips, flaach Panel Displays, optesch Faseren, Photovoltaikzellen, etc.
Am Verglach mat anere fluorhaltege elektronesche Gase,Stickstoff Trifluoridhuet d'Virdeeler vun schnell Reaktioun an héich Effizienz. Besonnesch an der Ätzung vu Siliziumhaltege Materialien wéi Siliziumnitrid, huet et eng héich Ätzrate a Selektivitéit, a léisst kee Rescht op der Uewerfläch vum geätzten Objet. Et ass och e ganz gutt Botzen Agent an huet keng Pollutioun un der Uewerfläch, déi de Besoine vun der Veraarbechtung Prozess treffen kann.
Post Zäit: Sep-14-2024
