Zu de gängleche fluorhaltege spezielle elektronesche Gase gehéierenSchwefelhexafluorid (SF6), Wolfram Hexafluorid (WF6),Kuelestofftetrafluorid (CF4), Trifluormethan (CHF3), Stickstofftrifluorid (NF3), Hexafluorethan (C2F6) an Octafluorpropan (C3F8).
Mat der Entwécklung vun der Nanotechnologie an der grousser Entwécklung vun der Elektronikindustrie wäert hir Nofro vun Dag zu Dag eropgoen. Stéckstofftrifluorid, als onverzichtbaart an am meeschte verbreet Spezialelektronikgas an der Produktioun a Veraarbechtung vu Paneele a Hallefleeder, huet e breede Maartberäich.
Als eng Zort vu fluorhaltege Spezialgas,Stéckstofftrifluorid (NF3)ass dat elektronescht Spezialgasprodukt mat der gréisster Maartkapazitéit. Et ass chemesch inert bei Raumtemperatur, méi aktiv wéi Sauerstoff bei héijer Temperatur, méi stabil wéi Fluor a liicht ze handhaben. Stéckstofftrifluorid gëtt haaptsächlech als Plasmaätzgas a Reinigungsmëttel fir Reaktiounskummeren benotzt an ass gëeegent fir d'Produktiounsberäicher vu Hallefleiterchips, Flachbildschirmer, optesche Faseren, Photovoltaikzellen, etc.
Am Verglach mat anere fluorhaltege elektronesche Gaser,Stéckstofftrifluoridhuet d'Virdeeler vun enger schneller Reaktioun an héijer Effizienz. Besonnesch beim Ätzen vu siliziumhaltege Materialien wéi Siliziumnitrid huet et eng héich Ätzgeschwindegkeet a Selektivitéit, sou datt et keng Réckstänn op der Uewerfläch vum geätzten Objet hannerléisst. Et ass och e ganz gutt Botzmëttel an huet keng Verschmotzung op der Uewerfläch, wat d'Bedierfnesser vum Veraarbechtungsprozess erfëlle kann.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 14. September 2024
