D'Halbleiterindustrie an d'Plackindustrie vun eisem Land erhalen en héije Wuelstand. Stéckstofftrifluorid, als onverzichtbaart a gréisstvolumenegt Spezialelektronikgas an der Produktioun a Veraarbechtung vu Paneele a Hallefleiter, huet e breede Maartberäich.
Zu de fluorhaltege spezielle elektronesche Gase gehéieren dacks benotztSchwefelhexafluorid (SF6), Wolfram Hexafluorid (WF6),Kuelestofftetrafluorid (CF4), Trifluormethan (CHF3), Stickstofftrifluorid (NF3), Hexafluorethan (C2F6) an Octafluorpropan (C3F8). Stickstofftrifluorid (NF3) gëtt haaptsächlech als Fluorquell fir Waasserstofffluorid-Fluoridgas-Héichenergie-chemesch Laser benotzt. Den effektiven Deel (ongeféier 25%) vun der Reaktiounsenergie tëscht H2-O2 an F2 kann duerch Laserstralung fräigesat ginn, dofir sinn HF-OF-Laseren déi villverspriechendst Laser ënner de chemesche Laser.
Stéckstofftrifluorid ass en exzellent Plasmaätzgas an der Mikroelektronikindustrie. Fir d'Ätze vu Silizium a Siliziumnitrid huet Stéckstofftrifluorid eng méi héich Ätzgeschwindegkeet a Selektivitéit wéi Kuelestofftetrafluorid an eng Mëschung aus Kuelestofftetrafluorid a Sauerstoff, an huet keng Verschmotzung op der Uewerfläch. Besonnesch beim Ätze vun integréierte Schaltungsmaterialien mat enger Déckt vu manner wéi 1,5 µm huet Stéckstofftrifluorid eng ganz exzellent Ätzgeschwindegkeet a Selektivitéit, léisst keng Réckstänn op der Uewerfläch vum geätzten Objet, an ass och e ganz gutt Botzmëttel. Mat der Entwécklung vun der Nanotechnologie an der grousser Entwécklung vun der Elektronikindustrie wäert seng Nofro vun Dag zu Dag eropgoen.
Als eng Zort vu fluorhaltege Spezialgas ass Stickstofftrifluorid (NF3) dat gréisst elektronescht Spezialgasprodukt um Maart. Et ass chemesch inert bei Raumtemperatur, méi aktiv wéi Sauerstoff, méi stabil wéi Fluor a liicht bei héijer Temperatur ze handhaben.
Stéckstofftrifluorid gëtt haaptsächlech als Plasmaätzgas a Reaktiounskummerreinigungsmëttel benotzt, gëeegent fir Produktiounsberäicher wéi Hallefleitchips, Flachbildschiermer, optesch Faseren, Photovoltaikzellen, etc.
Am Verglach mat anere fluorhaltegen elektronesche Gaser huet Stickstofftrifluorid d'Virdeeler vun enger schneller Reaktioun an héijer Effizienz, besonnesch beim Ätzen vu siliziumhaltege Materialien wéi Siliziumnitrid. Et huet eng héich Ätzgeschwindegkeet a Selektivitéit, léisst keng Réckstänn op der Uewerfläch vum geätzten Objet, ass och e ganz gutt Botzmëttel, verschmotzt d'Uewerfläch net a kann d'Bedierfnesser vum Veraarbechtungsprozess erfëllen.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 26. Dezember 2024