Lasergas gëtt haaptsächlech fir Laserglühung a Lithographiegas an der Elektronikindustrie benotzt. Dank der Innovatioun vun den Handybildschirmer an der Erweiderung vun den Uwendungsberäicher gëtt de Maart fir Polysilizium bei niddregen Temperaturen weider ausgebaut, an de Laserglühprozess huet d'Leeschtung vun TFTs däitlech verbessert. Ënnert den Neon-, Fluor- an Argongasen, déi am ArF-Excimerlaser fir d'Produktioun vun Hallefleeder benotzt ginn, mécht Neon méi wéi 96% vum Lasergasmëschung aus. Mat der Verfeinerung vun der Hallefleedertechnologie ass d'Benotzung vun Excimerlaseren eropgaang, an d'Aféierung vun der Duebelbeliichtungstechnologie huet zu enger staarker Erhéijung vun der Nofro no Neongas gefouert, deen vun ArF-Excimerlaseren verbraucht gëtt. Duerch d'Fërderung vun der Lokaliséierung vun elektronesche Spezialgaser wäerten déi national Hiersteller an Zukunft e bessere Maartwuesstumsraum hunn.
D'Lithographiemaschinn ass den Haaptausrüstung vun der Hallefleederproduktioun. D'Lithographie definéiert d'Gréisst vun Transistoren. Déi koordinéiert Entwécklung vun der Lithographieindustriekette ass de Schlëssel zum Duerchbroch vun der Lithographiemaschinn. Déi passend Hallefleedermaterialien wéi Photoresist, Photolithographiegas, Fotomasken, a Beschichtungs- an Entwécklungsausrüstung hunn en héijen technologeschen Inhalt. Lithographiegas ass de Gas, deen d'Lithographiemaschinn mat engem déiwen ultraviolett Laser generéiert. Verschidde Lithographiegase kënne Liichtquellen mat verschiddene Wellelängten produzéieren, an hir Wellelängt beaflosst direkt d'Opléisung vun der Lithographiemaschinn, déi ee vun de Kären vun der Lithographiemaschinn ass. Am Joer 2020 wäert de weltwäite Gesamtverkaf vu Lithographiemaschinne 413 Eenheeten ausmaachen, dovun ASML 258 Eenheeten, Canon 122 Eenheeten 30% an Nikon 33 Eenheeten 8%.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 15. Oktober 2021
