Laser Gas gëtt haaptsächlech fir Laser annealing a Lithographie Gas an der elektronescher Industrie benotzt. Profitéiert vun der Innovatioun vun Handybildschirmer an der Expansioun vun Uwendungsberäicher, gëtt d'Skala vum Low-Temperatur Polysilisiummaart weider ausgebaut, an de Laser-annealingprozess huet d'Performance vun TFTs wesentlech verbessert. Ënnert den Neon, Fluor an Argon Gase, déi am ArF Excimer Laser fir d'Fabrikatioun vun Halbleiter benotzt ginn, stellt Neon méi wéi 96% vun der Lasergasmëschung aus. Mat der Verfeinerung vun der Halbleitertechnologie ass d'Benotzung vun Excimer Laser eropgaang, an d'Aféierung vun Duebelbelaaschtungstechnologie huet zu enger schaarfer Erhéijung vun der Nofro fir Neongas gefouert, deen vun ArF Excimer Laser verbraucht gëtt. Profitéiert vun der Promotioun vun der Lokaliséierung vun elektronesche Spezialgasen, hunn Haushersteller an Zukunft e bessere Maartwuesstemraum.
Lithographie Maschinn ass de Kär Ausrüstung vun der Halbleiterfabrikatioun. Lithographie definéiert d'Gréisst vun den Transistoren. Déi koordinéiert Entwécklung vun der Lithographieindustrie Kette ass de Schlëssel zum Duerchbroch vun der Lithographiemaschinn. Déi passend Hallefleitmaterialien wéi Photoresist, Photolithographiegas, Photomask, a Beschichtung an Entwécklungsausrüstung hunn en héije technologeschen Inhalt. Lithographie Gas ass de Gas datt d'Lithographie Maschinn déif ultraviolet Laser generéiert. Verschidde Lithographiegase kënne Liichtquellen vu verschiddene Wellelängten produzéieren, an hir Wellelängt beaflosst direkt d'Resolutioun vun der Lithographiemaschinn, déi ee vun de Käre vun der Lithographiemaschinn ass. Am Joer 2020 wäert de globale Verkaf vu Lithographiemaschinne 413 Eenheeten sinn, vun deenen den ASML Verkaf 258 Eenheeten fir 62% ausgemaach huet, Canon Verkaf 122 Eenheeten fir 30% ausgemaach, an Nikon Verkaf 33 Eenheeten fir 8%.
Post Zäit: Okt-15-2021
